真空镀钛设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线离化源及泳冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化。

空心阴极离子镀膜设备配备多支空心阴极**，它利用钽管管内辉光放电的空心阴极效应，导致钽管升温至白炽状态强烈发射电子，形成弧光放电，产生高密度的等离子体电子流，引向干锅使镀料蒸发、汽化、电离（或通过反应气体反应）在工件上沉积成膜。

我公司研发了平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。

多弧离子镀膜设备是一种**、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

我公司研发了平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。

玻璃可以用磁控装饰镀，阴极多弧镀膜，连续磁控溅射镀，蒸发镀以下4种真空镀膜设备，如何选择那一款，具体的要根据贵司产品底材，镀膜要求来定，详情请致电我司13316689188 李国栋 经理

矩形阴极电弧/磁控溅射复合型镀膜设备采用矩形平面阴极电弧离子镀膜技术和直流磁控溅射、中频磁控溅射技术、脉冲偏压技术结合在同一镀膜机上，这种模式已成为当前五金类离子镀膜主流技术

矩形阴极电弧/磁控溅射复合型镀膜设备采用矩形平面阴极电弧离子镀膜技术和直流磁控溅射、中频磁控溅射技术、脉冲偏压技术结合在同一镀膜机上，这种模式已成为当前五金类离子镀膜主流技术。